Купить Фоторезист AQUA MER серии TSF300 - НПО МЕТАЛЛОМЕР

Товары

Категории

ПО ВАШЕМУ ЗАПРОСУ НИЧЕГО НЕ НАШЛОСЬ. ПОПРОБУЙТЕ ИЗМЕНИТЬ ФРАЗУ

Фоторезист AQUA MER серии TSF300

Сухой плёночный фоторезист

Фоторезист AQUA MER серии TSF300 Фоторезист AQUA MER серии TSF300 Фоторезист AQUA MER серии TSF300
Фоторезист AQUA MER серии TSF300
Фоторезист AQUA MER серии TSF300
Фоторезист AQUA MER серии TSF300
Фоторезист AQUA MER серии TSF300
Фоторезист AQUA MER серии TSF300

Фоторезист AQUA MER серии TSF300

СВОЙСТВА И СФЕРЫ ПРИМЕНЕНИЯ

  • Фоторезист AQUA MER серии TSF300 – это высокотехнологичный сухой пленочный фоторезист полностью на водной основе, разработанный для изготовления гибких печатных плат (ГПП) и внутренних слоёв..
ОСОБЕННОСТИ И ПРЕИМУЩЕСТВА:

 • Высокое разрешение – 25 – 50 мкм (1-2 мил) линия / зазор
• Превосходная совместимость – для увеличения выхода годной продукции с первого проявления
• Превосходная адгезия для увеличения выхода годной продукции с первого проявления
• Высокая контрастность изображения
• Параметры экспонирования – 6 ступень (21 ступенчатого клина Штоуффера) при 40-60 мДж / см2
• Превосходные параметры процесса удаления и высокая скорость удаления

Параметр

Ед. изм.

TFS310

TFS312

Примечание

Толщина

мкм

25

30

Энергия экспонирования

мДж/см2

40

55

Мин. время проявления

сек.

15

18

 

Адгезия (линия/зазор=x/250)

мкм

21

25

 

Разрешение (линия/зазор)

мкм

20

20

 


  TSF312 (рекомендуется 6-8 ступень клина Штоуффера 21);

Проявление 1% водный раствор Na2CO3, 30℃, минимальное время ×2;

30 мкм линия/зазор (см. фото с цифрового электронного микроскопа)