Фоторезист AQUA MER серии TSF300
СВОЙСТВА И СФЕРЫ ПРИМЕНЕНИЯ
- Фоторезист AQUA MER серии TSF300 – это высокотехнологичный сухой пленочный фоторезист полностью на водной основе, разработанный для изготовления гибких печатных плат (ГПП) и внутренних слоёв..
• Высокое разрешение – 25 – 50 мкм (1-2 мил) линия / зазор
• Превосходная совместимость – для увеличения выхода годной продукции с первого проявления
• Превосходная адгезия для увеличения выхода годной продукции с первого проявления
• Высокая контрастность изображения
• Параметры экспонирования – 6 ступень (21 ступенчатого клина Штоуффера) при 40-60 мДж / см2
• Превосходные параметры процесса удаления и высокая скорость удаления
|
Параметр |
Ед. изм. |
TFS310 |
TFS312 |
Примечание |
|
Толщина |
мкм |
25 |
30 |
|
|
Энергия экспонирования |
мДж/см2 |
40 |
55 |
|
|
Мин. время проявления |
сек. |
15 |
18 |
|
|
Адгезия (линия/зазор=x/250) |
мкм |
21 |
25 |
|
|
Разрешение (линия/зазор) |
мкм |
20 |
20 |
|
TSF312 (рекомендуется 6-8 ступень клина Штоуффера 21);
Проявление 1% водный раствор Na2CO3, 30℃, минимальное время ×2;
30 мкм линия/зазор (см. фото с цифрового электронного микроскопа)