Купить Фоторезист AQUA MER серии LEF200 - НПО МЕТАЛЛОМЕР

Товары

Категории

ПО ВАШЕМУ ЗАПРОСУ НИЧЕГО НЕ НАШЛОСЬ. ПОПРОБУЙТЕ ИЗМЕНИТЬ ФРАЗУ

Фоторезист AQUA MER серии LEF200

Сухой плёночный фоторезист

Фоторезист AQUA MER серии LEF200 Фоторезист AQUA MER серии LEF200 Фоторезист AQUA MER серии LEF200
Фоторезист AQUA MER серии LEF200
Фоторезист AQUA MER серии LEF200
Фоторезист AQUA MER серии LEF200
Фоторезист AQUA MER серии LEF200
Фоторезист AQUA MER серии LEF200

Фоторезист AQUA MER серии LEF200

СВОЙСТВА И СФЕРЫ ПРИМЕНЕНИЯ

  • Фоторезист AQUA MER серии LEF200 – это высокотехнологичный сухой пленочный фоторезист полностью на водной основе, разработанный для изготовления внутренних, внешних слоёв и электрохимических процессов прямым экспонированием.;
  • Фоторезист AQUA MER серии LEF200 специально создан для формирования рисунка с высоким разрешением и максимально возможной производительностью и выхода годной продукции с первого проявления. Cерия LEF200 специально создано для систем прямого лазерного или светодиодного экспонирования длинами волн 365 нм и/или 405 нм..
ОСОБЕННОСТИ И ПРЕИМУЩЕСТВА
• Высокое разрешение – 25 – 50 мкм (1-2 мил) линия / зазор
• Высокая скорость экспонирования
• Великолепная адгезия
• Высокая химическая стойкость
• Стабильно высокая производительность

Параметр Ед. изм. LEF212 LEF215 Примечание
Толщина мкм 30 38
Энергия экспонирования мДж/см2 16 22
Мин. время проявления сек. 20 25  
Адгезия (линия/зазор=x/250) мкм 25 30  
Разрешение (линия/зазор) мкм 25 30  
Макс. размер тентирования мм - 6.0  

 LEF215 (рекомендуется 7-9 ступень клина Штоуффера 21);

Проявление 1% водный раствор Na2CO3, 30℃, минимальное время ×2;

30 мкм линия/зазор (см. фото с цифрового электронного микроскопа)