Фоторезист AQUA MER серии LEF200
СВОЙСТВА И СФЕРЫ ПРИМЕНЕНИЯ
- Фоторезист AQUA MER серии LEF200 – это высокотехнологичный сухой пленочный фоторезист полностью на водной основе, разработанный для изготовления внутренних, внешних слоёв и электрохимических процессов прямым экспонированием.;
- Фоторезист AQUA MER серии LEF200 специально создан для формирования рисунка с высоким разрешением и максимально возможной производительностью и выхода годной продукции с первого проявления. Cерия LEF200 специально создано для систем прямого лазерного или светодиодного экспонирования длинами волн 365 нм и/или 405 нм..
• Высокое разрешение – 25 – 50 мкм (1-2 мил) линия / зазор
• Высокая скорость экспонирования
• Великолепная адгезия
• Высокая химическая стойкость
• Стабильно высокая производительность
• Высокая скорость экспонирования
• Великолепная адгезия
• Высокая химическая стойкость
• Стабильно высокая производительность
| Параметр | Ед. изм. | LEF212 | LEF215 | Примечание |
| Толщина | мкм | 30 | 38 | |
| Энергия экспонирования | мДж/см2 | 16 | 22 | |
| Мин. время проявления | сек. | 20 | 25 | |
| Адгезия (линия/зазор=x/250) | мкм | 25 | 30 | |
| Разрешение (линия/зазор) | мкм | 25 | 30 | |
| Макс. размер тентирования | мм | - | 6.0 |
LEF215 (рекомендуется 7-9 ступень клина Штоуффера 21);
Проявление 1% водный раствор Na2CO3, 30℃, минимальное время ×2;
30 мкм линия/зазор (см. фото с цифрового электронного микроскопа)