Купить Фоторезист AQUA MER серии MAH200 - НПО МЕТАЛЛОМЕР

Товары

Категории

ПО ВАШЕМУ ЗАПРОСУ НИЧЕГО НЕ НАШЛОСЬ. ПОПРОБУЙТЕ ИЗМЕНИТЬ ФРАЗУ

Фоторезист AQUA MER серии MAH200

Сухой плёночный фоторезист

Фоторезист AQUA MER серии MAH200 Фоторезист AQUA MER серии MAH200 Фоторезист AQUA MER серии MAH200
Фоторезист AQUA MER серии MAH200
Фоторезист AQUA MER серии MAH200
Фоторезист AQUA MER серии MAH200
Фоторезист AQUA MER серии MAH200
Фоторезист AQUA MER серии MAH200

Фоторезист AQUA MER серии MAH200

СВОЙСТВА И СФЕРЫ ПРИМЕНЕНИЯ

  • Фоторезист AQUA MER серии MP600 – это высокотехнологичный сухой пленочный фоторезист полностью на водной основе, разработанный для изготовления внутренних, внешних слоёв и электрохимических процессов.;
  • Фоторезист AQUA MER серии MAH200 специально создан для формирования рисунка с высоким разрешением и максимально возможной производительностью и выхода годной продукции с первого проявления. Cерия MAH200 демонстрирует выдающиеся характеристики в процессах тентирования и кислого травления, а также электрохимического осаждения металлов в кислых электролитах..
ОСОБЕННОСТИ И ПРЕИМУЩЕСТВА:
• Превосходная совместимость – для увеличения выхода годной продукции с первого проявления
• Улучшенные характеристики тентирования
• Прямые и вертикальные стенки проявленного фоторезиста / прямые и вертикальные стенки высаженного гальванического осадка (проводника)
• Низкое пенообразование при проявлении
• Высокое разрешение и высокая адгезия проявленной топологии
• Отсутствие подтекания под проявленный фоторезист при электрохимическом меднении и электрохимическом осаждении никель-золото.
• Низкое содержание выщелоченных веществ
• Улучшенный процесс удаления – маленький размер частиц (чешуйки), быстрое удаление


Параметр

Ед. изм.

MAH215

MAH220

Примечание

Толщина

мкм

38

50

Энергия экспонирования

мДж/см2

30

40

Мин. время проявления

сек.

20

26

 

Адгезия (линия/зазор=x/250)

мкм

25

30

 

Разрешение (линия/зазор)

мкм

25

30

 

Макс. размер тентирования

мм

6.5

7.5

 


MAH215 (рекомендуется 7-9 ступень клина Штоуффера 21);

Проявление 1% водный раствор Na2CO3, 30℃, минимальное время ×2;

Стенка нарощенного электрохимически проводника. Нет подтекания Ni-Au (см. фото)