Фоторезист AQUA MER серии MP600
СВОЙСТВА И СФЕРЫ ПРИМЕНЕНИЯ
- Фоторезист AQUA MER серии MP600 – это универсальный высокотехнологичный сухой пленочный фоторезист полностью на водной основе, разработанный для изготовления внутренних, внешних слоёв и электрохимических процессов.;
- Фоторезист AQUA MER серии MP600 специально создан для формирования рисунка с высоким разрешением и превосходной устойчивостью к щелочному травлению. Фоторезисты AQUA MER MP615 и MP620 совместимы с большинством процессов электролитического осаждения, включая золото..
ОСОБЕННОСТИ И ПРЕИМУЩЕСТВА:
· Отличная устойчивость к щелочному травлению
· Высокая разрешающая способность
· Полностью совместим со всеми процессами химического меднения, «затяжки», основной гальванической металлизации и нанесения металлорезиста
· Полностью совместим со всеми процессами прямой металлизации, основной гальванической металлизации и нанесения металлорезиста
· Совместим с процессами иммерсионного золочения
· Совместим с «тентинг» процессом - отличное перекрывание фоторезистом отверстий
· Возможность гальванического золочения толщиной до 2.5 микрон
|
Параметр |
Ед. изм. |
MP615 |
MP620 |
Примечание |
|
Толщина |
мкм |
40 |
50 |
|
|
Энергия экспонирования |
мДж/см2 |
70 |
90 |
|
|
Мин. время проявления |
сек. |
45 |
55 |
|
|
Адгезия (линия/зазор=x/250) |
мкм |
40 |
50 |
|
|
Разрешение (линия/зазор) |
мкм |
30 |
40 |
|
|
Макс. размер тентирования |
мм |
6.0 |
7.0 |
|
MP615 (рекомендуется 7-9 ступень клина Штоуффера 21);
Проявление 1% водный раствор Na2CO3, 30℃, минимальное время ×2;
50 мкм линия/зазор (см. фото с цифрового электронного микроскопа)